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技術(shù)支持
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超聲波清洗設(shè)備在LCD的清洗技術(shù)

來源:超聲波清洗機??????2018/3/21 15:06:04??????點擊:

【超聲波清洗機http://www.iyic.cnLCD清洗屬于精密清洗領(lǐng)域,對清洗的質(zhì)量、效率要求很高,以前,LCD工廠大多使用的是ODS清潔劑和超聲氣相清洗技術(shù),在國際上加速淘汰ODS清潔劑的壓力下,

LCD廠正在積極選用替代ODS清潔劑(或稱非ODS清洗劑),替代清洗劑必須保證清洗的LCD質(zhì)量不低于原用ODS清洗劑的清洗標(biāo)準(zhǔn),甚至更高。本文簡單介紹LCD替代ODS

清洗技術(shù)和不用或少用清洗劑的物理清洗技術(shù),并對其未來的發(fā)展進(jìn)行了簡單評說。

一、非ODS清洗技術(shù)

     到目前為止,LCD行業(yè)已有15家企業(yè)參與了《中國清洗行業(yè)ODS整體淘汰計劃》,并獲得國際多邊基會贈款。其中已有10家企業(yè)的替代設(shè)備投入運行。但仍有少數(shù)LCD廠繼續(xù)使用CFC-113TCA

部分已淘汰ODS清洗劑的企業(yè)也面臨進(jìn)一步優(yōu)選工藝、設(shè)備及非ODS清洗劑,以便提高LCD清洗品質(zhì)及效益的問題。以下討論LCD行業(yè)非ODS清洗技術(shù)的現(xiàn)狀。

二、非ODS清洗劑及其工藝路線的選擇

    適用于LCD行業(yè)的非ODS清洗劑有水基、半水基和溶劑型三種, 水基、半水基清洗劑適用于超聲水洗工藝路線,溶劑型清洗劑適用于氣相超聲清洗工藝路線。

     水基、半水基及溶劑型三種替代清洗劑中,水基清洗劑的清洗速度遠(yuǎn)遠(yuǎn)不及溶劑和半水基型清洗劑。其原因有二:一是水基清洗劑去除LCD殘留液晶以表面活性劑與液晶的乳化作用為主,乳化對超聲波的依賴性較大;二是水的表面張力比溶劑大,對狹縫的濕潤性能較差。而表面張力較低的半水基和溶劑型清洗劑與液晶是一種溶解作用。

    可用于直接替代CFC-113氣相清洗劑的溶劑型清洗劑包括HCFC、HFC、n-PB、HFE、低沸點碳?xì)浠衔锛捌浜跹苌?。其?span>HCFC類如HCFC141b、HCFC225,ODP值不等于0,為過渡性替代物;n-PB等鹵代烴在有水存在時對ITO具有較大的腐蝕性,而且n-PB的毒性至今尚無定論;HFCHFE類的優(yōu)點是ODP等于0,但價格昂貴,且HFC4310具有極高的GWP值,低沸點的碳?xì)浠衔锛捌浜跹苌?

最大的問題是易燃易爆,使用該類清洗劑必須采用有防爆功能的清洗設(shè)備。

 基于上述水基清洗劑的清洗效力較低和溶劑型清洗劑的諸多問題。國內(nèi)外絕大部分LCD企業(yè)采用半水基清洗劑作為CFC-113的替代物,使用閃點大于等于61℃碳?xì)浠衔锛缺WC了清洗劑在使用、存儲和運輸過程中的安全性,又利用碳?xì)浠衔锱c液晶的互溶性,較快的清洗殘留液晶,并輔以表面活性劑經(jīng)多道水漂洗,可以滿足LCD行業(yè)對清洗的品質(zhì)和效率越來越高的要求。

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